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 Low Temperature Crystallization of TiO2 Films by Sputter Deposition
  多賀, 康訓; 山田, 直臣, 2011.03. -- (総合工学 ; 23巻 (2011.3)). w.  <XC11000061>
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書誌
タイトル
Low Temperature Crystallization of TiO2 Films by Sputter Deposition
作成者
多賀, 康訓||タガ, ヤスノリ||Taga, Yasunori
作成者
山田, 直臣||ヤマダ, ナオオミ||Yamada, Naoomi
公開者
中部大学総合工学研究所
書誌構造リンク
ISSN
09153292
雑誌名
総合工学
巻次等
23
開始終了ページ
34-39
発行日
2011.03
主題
Sputter deposition, Low temperature crystallization, TiO2, Kinetic energy, Sputtered particles, Surface diffusion, Reconstruction, Crystallite
内容記述
Crystalline TiO2 film was formed on PET(polyethlene terephthalate) film by radio frequency sputter deposition method using a sintered TiO2 target by adding H2O gas to Ar gas for sputtering. X-ray diffraction analysis revealed that the crystal structure of the film of 100 nm thick was confirmed to be anatase crystallites of TiO2. In order to elucidate the mechanism of low temperature crystallization thus observed, direct measurement of surface temperature of growing films during sputter deposition was carried out by two methods of an infrared thermometer from the outside of vacuum chamber and a thermocouple attached to the growing film surface. Upon the beginning of sputter deposition in Ar gas, film temperature increased rapidly and became constant at120C after 30 min. Addition of H2O gas to Ar gas for sputtering resulted in further increase in film temperature and reached to 230C depending on the deposition conditions. Furthermore, photocatalytic performance of decomposition of methylene blue was examined to be enhanced remarkably as a result of crystallization of the film. It was concluded that low temperature crystallization of TiO2 film by sputter deposition was explained in terms of local heating of thin shallow surface region of growing film by kinetic energy deposition of sputtered particles.
登録日
2012.02.27
資源タイプ
論文
資料種別(NIIタイプ)
Departmental Bulletin Paper
フォーマット
PDFファイル
著者版フラグ
publisher
機関名
中部大学
外部リンク
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