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 電着法による化合物半導体薄膜作製
  高橋, 誠; 和田, 慎平, 2007.12. -- (中部大学工学部紀要 ; 43巻 (2007.12)). w.  <XC12000251>
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書誌
タイトル
電着法による化合物半導体薄膜作製
タイトル(その他)
デンチャクホウ ニヨル カゴウブツ ハンドウタイ ハクマク サクセイ
タイトル(その他)
Electrodeposition of Semiconductor Thin Films
作成者
高橋, 誠||タカハシ, マコト||Takahashi, Makoto
作成者
和田, 慎平||ワダ, シンペイ||Wada, Shinpei
公開者
中部大学工学部
書誌構造リンク
ISSN
21877408
XISSN
09108629
雑誌名
中部大学工学部紀要
巻次等
43
開始終了ページ
1-8
発行日
2007.12
主題
Electrodeposition, II-VI Semiconductor, Chalcogenide compound, Thin film
内容記述
Electrodeposition method is an important film preparation technique. Many papers on the characterization and preparation of semiconductor thin films prepared by this method have been published. This paper reviews representative papers relating to the II-VI semiconductor thin films, especially Cd chalcogenide compound semiconductor.
登録日
2013.02.25
資源タイプ
招待論文
資料種別(NIIタイプ)
Departmental Bulletin Paper
フォーマット
PDFファイル
著者版フラグ
publisher
機関名
中部大学
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