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書誌詳細
論文情報
<XC13000010>
ジャイアントプロセス用マイクロ波プラズマの研究開発
菅井, 秀郎, 2011.02. -- (中部大学工学部紀要 ; 46巻 (2011.2)). w. <XC13000010>
この書誌へのURL:
詳細
書誌
タイトル
ジャイアントプロセス用マイクロ波プラズマの研究開発
タイトル(その他)
ジャインアントプロセスヨウ マイクロハ プラズマ ノ ケンキュウ カイハツ
タイトル(その他)
Research and Development of Microwave Plasma for Giant Processing
作成者
菅井, 秀郎||スガイ, ヒデオ||Sugai, Hideo
公開者
中部大学工学部
書誌構造リンク
中部大学工学部紀要 <XB13000002> 46巻 (2011.2)
ISSN
21877408
XISSN
09108629
雑誌名
中部大学工学部紀要
巻次等
46
開始終了ページ
1-8
発行日
2011.02
主題
microwave plasma, high density plasma, large area plasma, density jump, hollow dielectric plate, giant process, liquid crystal display, solar cell
内容記述
This paper reviews recent progress of microwave plasma technology developed for large-area (>4m2) CVD and etching of thin films, which are indispensable for manufacturing giant panels of liquid crystal displays and solar cells. The microwave discharge at 915 MHz or 2.45 GHz enables production of high-density plasma with a uniform large area. The critical issues of plasma density jump and degradation of plasma uniformity at high pressure were overcome by introducing a new concept of multi-hollow dielectric plate.
登録日
2013.04.29
資源タイプ
招待論文
資料種別(NIIタイプ)
Departmental Bulletin Paper
フォーマット
PDFファイル
著者版フラグ
publisher
機関名
中部大学
外部リンク
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