WebOPAC Local書誌詳細


論文情報 <XC13000010>


ジャイアントプロセス用マイクロ波プラズマの研究開発菅井, 秀郎, 2011.02. -- (中部大学工学部紀要 ; 46巻 (2011.2)). w. <XC13000010>

この書誌へのURL：


詳細

書誌


タイトル	ジャイアントプロセス用マイクロ波プラズマの研究開発
タイトル(その他)	ジャインアントプロセスヨウマイクロハプラズマノケンキュウカイハツ
タイトル(その他)	Research and Development of Microwave Plasma for Giant Processing
作成者	菅井, 秀郎\|\|スガイ, ヒデオ\|\|Sugai, Hideo
公開者	中部大学工学部
書誌構造リンク	中部大学工学部紀要 <XB13000002> 46巻 (2011.2)
ISSN	21877408
XISSN	09108629
雑誌名	中部大学工学部紀要
巻次等	46
開始終了ページ	1-8
発行日	2011.02
主題	microwave plasma, high density plasma, large area plasma, density jump, hollow dielectric plate, giant process, liquid crystal display, solar cell
内容記述	This paper reviews recent progress of microwave plasma technology developed for large-area (>4m2) CVD and etching of thin films, which are indispensable for manufacturing giant panels of liquid crystal displays and solar cells. The microwave discharge at 915 MHz or 2.45 GHz enables production of high-density plasma with a uniform large area. The critical issues of plasma density jump and degradation of plasma uniformity at high pressure were overcome by introducing a new concept of multi-hollow dielectric plate.
登録日	2013.04.29
資源タイプ	招待論文
資料種別(NIIタイプ)	Departmental Bulletin Paper
フォーマット	PDFファイル
著者版フラグ	publisher
機関名	中部大学
外部リンク
レビュー


	ブックマーク(BM)機能
	追加ボタンを押すとブックマークを追加します


	マイフォルダ機能
	書誌情報をマイフォルダへ登録できます。登録ボタンを押すと現在表示している書誌をマイフォルダへ登録します。


	ファイルに保存
	現在、表示している情報をファイルに保存します。ファイルのエンコードを選択し、保存ボタンを押してください。			エンコード：